真（zhēn）空泵廠家分析真空壓力控製（zhì）係統如何優化。芯片的刻蝕工藝通常要在一個受控的真空環境下工作（zuò），反應（yīng）腔的功能是在真（zhēn）空環境中保持（chí）工藝參數需要的壓力，去除不需要的水汽、空氣和附加反應物；創建（jiàn）一個能夠使等離子體發生反應的真空環境。為了降低刻蝕機真空壓力控製係統的（de）成本，實現高真空獲得設備（bèi）的清潔化、簡單化和微型化，同時為了提高真空係統（tǒng）的抽氣速率和極限真空，係（xì）統（tǒng）中的（de）腔、真空泵以及連接管路和閥門的選配是很重（chóng）要（yào）的。

刻蝕機為了保證刻蝕工藝需要的（de）穩定工作壓力，大抽速真（zhēn）空係統是必不可少的組成部分。普諾（nuò）克真（zhēn）空（kōng）泵廠家詳細地介紹反應腔、真空泵的選擇、真空（kōng）閥門的選配、真空計（jì）和真空檢測（cè）開關（guān）、真空計和真空檢測開關和連接（jiē）管路。

真空泵廠家分析真（zhēn）空壓力控製係（xì）統如何優化？要從以下五個方麵展開：

⑴反應腔

反應腔是真空係統的基本部件，不同刻蝕的反（fǎn）應腔形狀和大小不同，但都（dōu）屬（shǔ）於受負壓的容器。為了增加芯片產能的需要反（fǎn）應腔采用的（de）是多工位設計，這就需要真空泵的抽速滿足其要（yào）求。多工位設計要保證多個工位芯片的（de）均勻性是很難的。必須加大真空泵的抽氣速率，分子泵是最好的選擇。根據不同工（gōng）藝的需要，反應腔的工作壓力一般在10^-3-10^-2Torr之間，既要保證反（fǎn）應腔的真空度，又要保證工（gōng）藝氣體的壓力，確保反應腔工作在真空穩定的狀態下，這一直是真空泵廠家研究的課題。

⑵真空泵的選（xuǎn）擇

真空泵是獲得（dé）真空的關鍵設備，至今還（hái）沒有一種泵能從大氣壓一直工作到接近超真空（kōng），必須兩種或以上（shàng）的泵聯合使用，螺（luó）杆式幹泵屬於容（róng）積泵類型，其工作循環（huán）可分（fèn）為吸氣、壓縮和排氣三個（gè）過（guò）程，其優點是結構穩定，重心低，轉（zhuǎn）動平穩，振動（dòng）小，噪音小。分（fèn）子泵有牽引分子泵、渦輪分子泵和複合式分子泵等，分子泵的選型根據刻蝕反應腔壓力和容積的不同而不同。

⑶真空閥門的（de）選配

選擇鍾擺閥是為了配合分子（zǐ）泵大口徑尺寸的需要，鍾（zhōng）擺（bǎi）閥的開度大反應腔的壓力就減小，但（dàn）是當開度大到一定程（chéng）度時，由於泵的抽速有（yǒu）限，反應腔的真空就被限製住了（le），真（zhēn）空壓力就不能（néng）繼續減小。所以要選擇鍾擺閥適合的工（gōng）作開度，以滿足刻蝕工藝工作壓（yā）力的要求。

⑷真空計和真空檢測開（kāi）關

真空計能時刻監控反應腔和管路的壓力，在反應腔和管路上設置真空計，當真空度達到一（yī）定值時，開啟或關閉真空閥門。真空計的分類主要有兩種方法：①按真計（jì）讀數的刻（kè）度（dù）方法進行分類，即絕對真空計和（hé）相對真空計；②按真空計測量（liàng）原理進行分類，即直（zhí）接（jiē）測量真空計和間接測量真空計。薄膜式電容真空（kōng）計是間接測量的絕對真空計，由於具有性能穩定（dìng），重複性好（hǎo），而且其（qí）響應速度快，抗過載能力強，結（jié）構牢固，使用（yòng）方便的特點，因此被業界廣泛應（yīng）用。為了安全考慮，真空管路必須設置大氣真空開關，當壓力值達到一個大氣壓時真空開（kāi）關自動打開排氣，保護反應腔和管路係統的（de）真空儀器。

⑸連接管

真空係（xì）統最重要的性能參數是其（qí）所能獲得的極（jí）限真空度和（hé）對反應腔的有效抽速，真空係統的（de）極限真空度是指在沒有外加負（fù）荷（hé）的情況下（xià），經過足夠長時間的抽氣後，係統所能達的最低壓力。

進口真空（kōng）泵廠家表示（shì）任（rèn）何真空係統絕（jué）對（duì）不漏的（de）現象是不可能的，所以真空管路上需要設置檢漏口（kǒu），方便進行（háng）真空檢漏。