等（děng）離子清洗（PLASMA）是（shì）一種依靠處於“等離子態”的物質的“活化作用”，來去除物體表麵汙漬的一種（zhǒng）清洗方法。它屬於電子工業清洗中的幹法（fǎ）清洗，過程中需要真空泵製造（zào）一定的真空條件滿足清洗所需，東莞市91污真空（kōng）科技有限公司來說說旋片真空泵在等離子清洗技（jì）術中的應（yīng）用過程是怎麽一回事，以及講解一下旋片真空泵具有什麽特點（diǎn）。

等離子清（qīng）洗所需要的等（děng）離子體主要通（tōng）過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生，像（xiàng）低壓氣體輝光等離子體（tǐ）。簡單地如開頭說，等離子清（qīng）洗需要在真空狀態下進行（一般需（xū）保持在100Pa左（zuǒ）右），所以需要德國旋片（piàn）真空泵進行抽真空作業。

等離子清洗用旋片真空泵的過程是如（rú）何的？

其主（zhǔ）要過程包括：首先（xiān）將需要清洗的工件送入真空（kōng）室固定，啟動旋（xuán）片真（zhēn）空泵等裝置開始抽真空（kōng）排氣到10Pa左右的真空度；接著（zhe）向真空室引入等離子清洗用的氣（qì）體（根據清洗材質的不同，選用的氣體（tǐ）也不同，如氧氣、氫氣、氬氣、氮氣等），並將（jiāng）壓力保持在100Pa左（zuǒ）右；在（zài）真空室內的電極與接地（dì）裝置之間施加（jiā）高頻電壓，使（shǐ）氣體被擊穿，並通過（guò）輝光放電（diàn）使其發生離（lí）子化，產生等離子體；在真空室內產生的等離子體完（wán）全覆蓋被清洗工件後，開始清洗（xǐ）作業，清洗過（guò）程會持續幾十秒到幾分鍾。整個過程就是依靠等離子體在電磁場內空間運動，並轟擊被處理物體表麵，從而達到表麵處理、清洗和刻蝕（shí）的效果（清洗過程某（mǒu）種程度就是（shì）輕微的蝕刻工藝）；清洗完畢後，排出汽化的汙（wū）垢及（jí）清洗氣體，同時向真空室（shì）內送入空氣恢複至正常大氣壓。

清洗過程中，在旋片真空泵控製真空室的真空環境時，氣體的流量決定了發（fā）光色度：如果色（sè）度較重，說明真空度低，氣體流量較（jiào）大；而偏白時，則是真（zhēn）空度過高，氣體（tǐ）流量較小；具體需要根據（jù）所需的（de）處理效果，來確定真空泵要實現的真空度。

等離子清洗技術不分處理對（duì）象（xiàng）的基材類型，對金屬（shǔ）、半導體（tǐ）、氧化物（wù）和（hé）大多數高分子材料（如聚丙（bǐng）烯、聚脂、聚酰亞（yà）胺、聚氯（lǜ）乙烷、環氧、甚至（zhì）聚四氟乙烯）等原（yuán）基材（cái）料都能很好處理（lǐ），並可實現整（zhěng）體和（hé）局部以及複雜結構的清洗，還具備環保、安全、易控製等優勢，因此在很多方（fāng）麵，尤其是精密件清（qīng）洗、新半導體材料研究以及集成電路（lù）器件製造業中逐漸取代了濕法清洗工藝。

91污旋片真空泵在等離子清（qīng）洗技術中的應用同（tóng）國內同類其他產品相比的優點：

1.使（shǐ）用方（fāng）便，安（ān）裝，維護簡（jiǎn）單；

2.旋片真空泵設有氣鎮閥，可抽除少（shǎo）量水蒸氣；

3.旋片（piàn）真空泵的極（jí）限（xiàn）真空度高；

4.內裝強製進油，潤滑充分，性能可靠；

5.設（shè）有自動防返油雙重保險裝置；

6.保持（chí）進氣壓強為1.33×10Pa時仍可（kě）連續運（yùn）轉；

7.不（bú）漏油、不噴油、不汙染（rǎn）工作環境。