等離（lí）子刻蝕是太（tài）陽能電池（chí）片的生產工藝流程之一，其他流程有矽片（piàn）檢測、表（biǎo）麵製絨及酸（suān）洗、擴散製結、去磷矽玻璃、鍍減反射膜、絲網印刷、快速（sù）燒結等。東莞市（shì）91污真空科技（jì）有限公（gōng）司旗下的真空係統在等離子刻蝕中的應用是陽能（néng）電池片製造企業所采（cǎi）用的，因為普（pǔ）諾克真（zhēn）空係統具有真空度高、性（xìng）能（néng）穩定、壽（shòu）命長、操作（zuò）簡單維護方便，噪音少等特點。

我們先來了解一下等離子刻蝕是一個什麽樣的過程。

由於在擴散過程中，即使采用背靠背擴散，矽（guī）片的所有表麵包括邊緣都將不（bú）可避免地（dì）擴散上磷。PN結的正麵所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區域流（liú）到PN結的背麵，而（ér）造成短路。因此，必須對太陽能電池周邊的摻（chān）雜矽進行刻蝕，以去除電池邊（biān）緣的PN結。通常采用等離子刻蝕技術完（wán）成這一工藝。等離子刻蝕是在低壓狀（zhuàng）態下，反應氣體CF4的母體分子在射頻功率的激（jī）發下，產生電離並形成等離（lí）子體。等離子體是由帶（dài）電的電子和離子（zǐ）組成，反應腔（qiāng）體中的氣體在電子的（de）撞擊下，除了轉變成離子外，還能吸收能量並形成大量的活性基團。活性反應基（jī）團由於擴散或者在電場（chǎng）作用下到達SiO2表麵，在那裏與被刻蝕材料表（biǎo）麵發生（shēng）化學反應，並形成揮（huī）發性的反應生成物脫離（lí）被刻蝕物質表麵，被真空係統抽出腔體。

等離子（zǐ）刻蝕機結構主要（yào）包括（kuò）預真空室、刻蝕腔、供氣係統和真空係（xì）統四部分。

1.預真空室

預真空室的作用（yòng）是確保刻蝕腔內維持在設定的真空度，不受外界環境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險性氣體與潔淨廠房隔離開（kāi）來。它由蓋板（bǎn）、機械手、傳動機構（gòu）、隔離門等組（zǔ）成。

2.刻（kè）蝕腔體（tǐ）

刻蝕腔體是ICP 刻蝕設備的核心結構（gòu），它對刻蝕速率、刻蝕（shí）的垂直（zhí）度以及粗糙度都有（yǒu）直（zhí）接的（de）影響。刻蝕腔的主要組（zǔ）成有（yǒu）：上電極（jí）、ICP 射頻單元、RF 射頻單元、下電（diàn）極係統、控溫係統等組（zǔ）成。

3.供氣（qì）係統

供氣係統是向刻（kè）蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通過（guò）壓力控製器（PC）和質量流量控製器（MFC）精準的控製氣（qì）體的流速和流量。氣體供應係統由氣源瓶（píng）、氣體輸送管道、控製係統、混合單元等組成。

4.真空係統

真空（kōng）係（xì）統有兩套，分別用（yòng）於預真空室和（hé）刻蝕腔體。預真空室由機械泵單獨抽（chōu）真空，隻有在預真空室真空度達到（dào）設定值時，才能打開隔離門，進行傳送片。刻蝕腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應生成的氣體也由真空係統排（pái）空。

普（pǔ）諾克真空係統在等離子刻蝕中的應用的作用是可以除（chú）去太陽電池周邊的在擴散工（gōng）藝中在矽片的表麵和周邊都擴散（sàn）了N型結，如果不去除周邊N型結會導致電池片正負極被周邊N型結連接起來時電池正負極相通（tōng）起不（bú）到（dào）電池的作用。如果矽片未刻（kè）蝕或刻蝕不淨沒及時發現並下傳印刷將產生低並組片。我們可以通過紅外熱成像儀檢（jiǎn）測並判斷低並（bìng）組是否由刻蝕原因產生的。